Enkeltfag Engelsk 5 ECTS

Avanceret mikro- og nano-fabrikationsteknologi

Overordnede kursusmål

At sætte dig i stand til at kunne udnytte og vurdere de forskellige tilgængelige metoder til fremstilling af halvlederkomponenter og integrerede kredsløb og blive fortrolig med det apparatur og hjælpeudstyr, som man betjener sig af ved arbejdet med ovennævnte metoder. På baggrund af dette at kunne udarbejde detaljerede procesfølger for fremstilling af halvlederkomponenter, integrerede halvlederkredsløb og mikrosystemer, at kunne evaluere de opnåede resultater, at forstå sammenhængen mellem de fysiske modeller, den anvendte fremstillingsprocedure og de opnåede resultater.

See course description in English

Læringsmål

  • Benytte analytisk – lineær eller ulineær – modellering til en indledende optimering i procesfølge udvikling samt anvende analytisk modellering til støtte for fortolkning af resultater fra numerisk modellering
  • Redegøre for den fascinerende vekselvirkning mellem diffusion, oxidation og nitridation forårsaget af punktdefekter samt forudsige resultatet af disse effekter på en fremstillingsproces
  • Redegøre for den grundlæggende fysik for molekyler og atomer i et vakuumkammer, det basale udstyr til at frembringe og måle lave tryk samt brugen af DC- og RF-genereret plasma til deponering og ætsning
  • Redegøre for hvorledes filmdyrkningsproces parametre påvirker filmenes parametre, herunder trindækning og fyldning af grøfter, samt benytte denne indsigt til at optimere procesparametrene med henblik på at opfylde et sæt specifikationer
  • Redegøre for hvorledes parametrene for en ætseproces påvirker ætseegenskaberne, herunder selektiviteten og anisotropien, og på baggrund heraf kunne justere ætseparametrene for at realisere foreskrevne egenskaber
  • Redegøre for hvordan krystaldyrkningsmetoden påvirker siliciumkrystallens egenskaber og vekselvirker med efterfølgende komponentfremstillings-processer og på basis heraf vælge det bedste startmateriale for en given anvendelse
  • Redegøre i detalje for UV-litografiens fysik og fotokemi og benytte denne viden til at optimere den litografiske proces også når omvendeprocesser benyttes
  • Vælge den mest hensigtsmæssige doteringsmetode til en given anvendelse og til fulde forstå konsekvenserne af valget med hensyn til termisk budget, defekter, muligt doteringsniveau og kontrol

Kursusindhold

Fysik og kemi for halvlederteknologiske fremstillingsprocesser, herunder krystaldyrkning, epitaxi, tyndfilmteknik, lavtryks CVD, oxidation, diffusion, ionimplantation, ætsning og mikrofotolitografi samt fysisk og elektrisk evaluering af materialer.

Anbefalede forudsætninger

22600, Eller ækvivalente kurser

Undervisningsform

En 4 timers blok pr. uge med forelæsninger og opgaveregning.

Fakultet

Bemærkninger

Kurset kan tages som en overbygning til 22600.

Se kurset i kursusbasen

Tilmelding

Sprog

Engelsk

Varighed

13 uger

Institut

Fysik

Sted

DTU Lyngby Campus

Nanolab
Kursus ID 10850
Kursustype Kandidat
Semesterstart Uge 5
Semester slut Uge 19
Dage fre 13-17
Pris

7.500,00 kr.

0 pladser tilbage

Tilmelding