Introduktion til renrums-baseret mikrofabrikation
Overordnede kursusmål
Det overordnede formål med kurset er at give dig teoretisk baggrund og praktisk erfaring med de mest almindelige eksperimentelle teknikker, der anvendes til siliciummikrofabrikation. Du vil blive introduceret til mikrofabrikationsmetoder såsom fotolitografi, ætsning, tyndfilmdeponering og karakteriseringsmetoder såsom scanning elektronmikroskopi (SEM) og profilometri. I løbet af kurset vil de studerende fremstille en fungerende tryksensor og karakterisere den i DTU Nanolab-renrummet. Dette vil gøre dig i stand til at designe en fremstillingsproces, tegne en lithografisk maske og arbejde sikkert i DTU Nanolab-renrummet.
See course description in English
Læringsmål
- Arbejde sikkert, rent, venligt, og uafhængigt i DTU Nanolab-renrummet
- Forklare fysik og kemi relateret til udstyret til specialister og generalister
- Forklare tekniske og fundamentale begrænsninger for en specifik fremstillingsproces
- Beregne relevante procesparametre
- Analysere og anvende procesresultater
- Tegne fotomasker
- Designe og fremstille et enkelt mikromekanisk system (MEMS)
- Præsentere og diskutere en proces følge og fremstillingsresultater
- Ved kritisk vurdering udvælge processer og karakteriseringsudstyr til ens egen procesfølge
Kursusindhold
Kurset består af en teoretisk del og en eksperimentel del. I den eksperimentelle del vil de studerende fremstille og karakterisere en fungerende tryksensor. Den eksperimentelle del vil dække følgende emner:
• Kemisk pådampning ved lav tryk
• UV-litografi
• Kemisk vådætsning
• Reaktiv ionætsning
• Fysisk pådampning
• Lift Off
• Scanning elektronmikroskopi
• Elektrisk karakterisering ved brug af en probe-station
I den teoretiske del beskrives fysikken, kemi og teknologien i de fremstillingsprocesser, der anvendes i moderne nanofremstilling. Emner, der dækkes, inkluderer:
• Alle ovenstående og
• Plasma forstærket kemisk pådampning
• Substratmaterialer: Silicium og Silica
• Materialemodifikation: Ionimplantation og doping-diffusion, annealing
• Bonding: Anodisk bonding, fusion bonding
• Procesintegration
• Processimulering
Til eksamen vil studerende præsentere det arbejde, de har udført i renrummet, og de vil fremlægge de målte data fra deres tryksensorer.
Undervisningsform
Praktiske instruktioner, forelæsninger, e-learning, øvelser og projektarbejde.
Fakultet
Pladsbegrænsning
Minimum 6, Maksimum: 12.
Vær opmærksom på, at dette enkeltfagskursus har et minimumskrav til antal deltagere. Derudover er der begrænsning på antallet af studiepladser. Er der for få tilmeldinger oprettes kurset ikke. Er der for mange tilmeldinger, vil der blive trukket lod om pladserne. Du får besked om, om du har fået tildelt en studieplads senest 8 dage før kursusstart.